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ODS
高浓度高纯度臭氧输送系统

特征


  • 高纯度水冷臭氧发生器,可生产浓度高达350 g/Nm3​的臭氧
  • 先进的高浓度监测仪
  • 使用质量流量控制器监测和控制臭氧和进料气 
  • 完整的安全联锁和EMO系统​
  • 支持最多四个独立的伺服控制回路​
  • 19英寸机架固定,顶端配有排气系统,底端配有轮子

维护

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下载

  
  
  
Model ODS Ozone Delivery System.pdfODS Specification2813 KB
ODS Generic Manual - 08554.pdfODS Manual2268 KB

规格


ODS Specification.PNG

应用


ODS - 氧气输送系统具有多功能性,且安装使用简单,已经广泛应用在需求不同浓度、流量的薄片处理应用中,例如:

  • 半导体
    • 化学气相沉积(CVD)
    • 原子层沉积(ALD)
    • 氧化物生长
    • 表面处理
    • 粒子清洁
    • 光刻胶去除
    • 灰化

概述

ODS系列高浓度高纯度臭氧输送系统为要求最高的半导体应用而设计。这个高度可靠的臭氧输送系统适合需求不同流量的高浓度臭氧的应用中。该臭氧输送系统整合完全,操作简单,能够方便的与绝大多数半导体工具联动,插入即可使用。

该系统基于微处理器的控制器能够根据用户提供的设定值伺服控制臭氧输送。

该臭氧输送系统包括多通道臭氧泄露探测器和带排气系统的外壳。全部的气体管线都有双重保险。